در این فرآیند، ماده ی مورد نظر به وسیله ی یک پرتو الکترونی حاصل شده از فیلامان تنگستنی در شرایط خلاء بمباران می شود. پرتو الکترون موجب بخار شدن اتم هایی از سطح ماده شده و در ادامه این اتم ها به شکل رسوب جامد بر روی سطح مورد نظر درون محفظه خلاء نشانده می شوند و لایه نازکی از مواد آند را همانند شکل 2 روی آن می نشانند. یکی از مزایای واضح این روش آن است که در آن اجازه داده می شود تا انرژی در حین گرمایش هدف به منبع نیز منتقل شود و بازدهی آن در رسوب دهی مواد خالص بخار شده روی زیرلایه بسیار بالاست. همچنین نرخ رسوب دهی در این فرآیند می تواند از مقادیر بسیار کم و درحد nm/min ا تامقادیر بالای چند میکرومتر در دقیقه متغیر باشد. بازده مصرف مواد نیز در مقایسه با روش های دیگر بالاست و این فرآیند بر روی ساختار و مورفولوژی فیلم تشکیل شده نیز کنترل دارد.
این شرکت امکانات طراحی و ساخت کامل دستگاه های مبتنی بر این روش را در اختیار داشته و به عنوان یک محصول بر اساس ویژگی و خصوصیات مواد و عناصر مختلف از جمله فلزات و انواع اکسید ها دستگاه را باز طراحی و بهینه سازی کند .